国产刻蚀机猛后退:抵达3nm,拿下国内60%份额,逼退美企
家喻户晓,机猛在当初的后退芯片制作工艺中 ,光刻机 、抵达刻蚀机是拿下必不可少的两个紧张工具。
假如从所有的份额半导体配置装备部署的成原本看,光刻配置装备部署占其中的逼退20% ,而蚀刻配置装备部署占其中的美企23% ,两者占其中的国产国内43%的比例 ,足以证实光刻--蚀刻有多紧张了。刻蚀
光刻与蚀刻也是机猛成套运用的,光刻工艺后 ,后退便是抵达蚀刻工艺 ,缺一不可,拿下不可替换。
而光刻机方面 ,国内的技术很落伍,这个巨匠都清晰的。但刻蚀机方面 ,国内的技术可不差,美全是国内先历水平 。
之以是这么强 ,这是由于一家公司 ,那便是中微半导体,由尹志尧博士于2004年建树 。
在建树中微半导体以前,尹志尧博士曾经在英特尔、泛林 、运用质料等企业均使命过,积攒了大批的履历 、技术以及人脉 。
凭证媒体的说法 ,尹志尧总体在半导体行业具备86项美国专利以及200多项列国专利 ,被誉为“硅谷最有造诣的华人之一”。
其后他看到中国半导体技术相对于落伍,于是在2004年的时候,他带着钱,带着一批精英强人归国(据称第一批是15个),停办了中微 ,誓要冲破外洋的操作。
在2007年的时候,中微研收回了第一代介质刻蚀机,而且全天下初次接管可单台自力操作的双反映台 ,功能致使比外洋同类产物还要高30%。
而后中微不断的自动 ,中微的刻蚀机技术不断的后退,抵达了全天下开始进的水平 ,当初已经被用于某晶圆厂的3nm芯片破费线中 。
而克日,中微更是展现 ,中微在中国电容耦合等离子体(CCP)刻蚀配置装备部署市场的市场份额估量将从去年10月的24%增至60%。在电感耦合等离子体(ICP)工具市场,其份额可能会从简直为零回升到75%。
合计来看,中微往年在国内的刻蚀市场份额,可能提升至60%,而以前占有主导位置的美国泛林半导体、运用质料等 ,全副被中微打的节节溃退了。
接下来 ,愿望此外国产半导体配置装备部署 ,特意是光刻机,也可能像中微的刻蚀机同样,抵达全天下先历水平 ,实现5nm、3nm,那末中国芯片财富,就再也不怕美国洽谈了。返回搜狐,魔难更多
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